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產(chǎn)品中心

Product Center

小型濺射儀鄭科探

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

小型濺射儀鄭科探KT-Z1650PVD 該產(chǎn)品為臺式磁控濺射鍍膜機,能夠在非導電或導電不良的樣品上涂布金(Au),鈀(Pd),鉑(Pt)和金/鈀(Au / Pd)的薄膜。 在較短時(shí)間內即可形成具有細粒度的均勻薄膜,

產(chǎn)品型號:KT-Z1650PVD
更新時(shí)間:2024-03-27
廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
訪(fǎng)問(wèn)量:1155
品牌鄭科探濺射氣體根據需求通氣
樣品臺尺寸50mm控制方式觸摸屏智能控制
樣品倉尺寸φ160x160mm靶材尺寸50mm
靶材材質(zhì)金 鉑 銅 銀 等價(jià)格區間面議
產(chǎn)地類(lèi)別國產(chǎn)應用領(lǐng)域化工,電氣

小型濺射儀鄭科探KT-Z1650PVD


離子濺射儀在掃描電鏡中應用十分廣泛,通過(guò)向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導電樣品的荷電現象,并提高觀(guān)測效率,另外可以使用噴碳附件對樣品進(jìn)行蒸碳,實(shí)現不導電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。


磁控濺射優(yōu)點(diǎn)

1沉積速率快,沉積效率高,適合工業(yè)生產(chǎn)大規模應用

2基片溫度低,適合塑料等不耐高溫的基材鍍膜

3制備的薄膜純度高、致密性好、薄膜均勻性好、膜基結合力強

4可制備金屬、合金、氧化物等薄膜


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小型濺射儀鄭科探KT-Z1650PVD廠(chǎng)家供應技術(shù)參數;

控制方式

7寸人機界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1000W

輸出電壓電流

電壓≤1000V  電流≤1A

真空

機械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板類(lèi)型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺

可旋轉φ62  (可安裝φ50基底)

樣品臺轉速

8轉/分鐘

樣品濺射源調節距離

40-105mm

真空測量

皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

預留真空接口

KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進(jìn)氣口




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